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感应耦合等离子体(ICP)刻蚀机
制造厂商: 中国电子科技集团第四十八研究所
生产国别: 中国
分类编码: 120302
购置日期: 2016-12-01
规格型号: M45150-2/UM
仪器加盟状态:

服务机构

湖南大学

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详细信息与指标

制造厂商: 中国电子科技集团第四十八研究所
生产国别: 中国
分类编码: 120302
购置日期: 2016-12-01
规格型号: M45150-2/UM
仪器加盟状态:
功能/应用范围: ICP是用于半导体流片工艺过程中SiC、Ni、Ti等材料的刻蚀,是用于形成功率半导体器件结构或图形的关键设备
主要附件: 应用于SiC、SiO2、多晶硅、硅、半导体材料、部分金属等材料的刻蚀工艺,在MEMS器件制造中用作Si的通孔刻蚀等。
主要技术指标参数: (1) 适用样品尺寸:单片,最大6 (2) 装片量:1片/批 (3) 刻蚀介质:掺杂硅、氮化硅、PR (4) 等离子体源:电感耦合等离子体源(ICP源),功率2.5kW,频率13.56MHz,自动匹配偏压电源:功率500W,频率13.56MHz,自动匹配"
技术特色:
服务实例: 暂无