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四轴激光图形化直写设备
制造厂商: 中国 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
生产国别: 中国
分类编码: 120199
购置日期: 2018-11-08
规格型号: Microlab
仪器加盟状态:

服务机构

湖南大学

暂无 33
好评率 成交量

详细信息与指标

制造厂商: 中国 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
生产国别: 中国
分类编码: 120199
购置日期: 2018-11-08
规格型号: Microlab
仪器加盟状态:
功能/应用范围: 可用于传统集成电路,MEMS,微流控,现代光学新型材料研究等
主要附件:
主要技术指标参数: 最小结构尺寸0.2um 具有三个不同分辨率的光学镜头,支持基底厚度1-15mm支持Z轴基底翘曲100um 支持扫描曝光,灰度曝光,拖曳曝光 书写速度不小于10mm2/min@0.5um;40mm2/min@0.5um;80mm2/min@0.5um; 套刻精度小于等于500nm 支持256阶3D灰度光刻
技术特色:
服务实例: 暂无