| 主要技术指标参数： |
1.光刻精度：最小线宽≤1.2 µm，光刻镜头工作距离≥19 mm
2.具备交互式套刻指引功能
3.具备图像识别对焦功能
4.曝光波长：405 nm 或 385 nm
5.数字掩模板分辨率：≥1920 * 1080，微镜尺寸≤7.6 um
6.显微观测：支持显微观测且不会引起光刻胶变性
7.套刻精度：套刻精度5 mm x 5 mm：1000 nm
套刻精度50 mm x 50 mm：1500 nm
8.样品厚度：≥8 mm
9.样品尺寸：≥40mm * 40 mm
10.支持样品旋转
11.样品吸附：支持样品吸附
12.设备软件：原位光绘功能、物像绑定功能、成像拼接功能、畸变矫正功能、灰度曝光功能
13.画图软件：支持阵列画图、套刻画图 |
